1951 |
会社設立 |
1953 |
小田原酒匂工場建設。写真製版用感光液及び薬品類の製造開始、印刷製版業界へ販売 |
1955 |
各種フォトレジストの製造開始、電子工業界へ販売 |
1970 |
小田原東町工場建設。オフセット印刷用PS版製造開始、国内及び海外へ販売開始 |
1984 |
CCDカラーフィルター用フォトレジストFURを開発、販売 |
1985 |
LSI用リフトオフレジストLMRを開発、販売 |
1988 |
営業本部を東京都練馬区に開設 |
1989 |
富士小山工場建設。最新鋭フォトレジスト製造工場として稼働を開始 |
撮像素子用マイクロレンズPMRを開発販売 |
1993 |
撮像素子用ノークローム染色レジストFR-93開発、販売 |
1999 |
富士小山工場感光液製造部門ISO9002認定取得 |
2002 |
撮像素子用マイクロレンズニュータイプPMR-NTを開発、販売 |
富士小山工場ISO9002をISO9001-2000に移行 |
2003 |
撮像素子用厚膜ポジレジストFPPR-HWⅡを開発、販売。 |
2006 |
撮像素子用マイクロレンズニュータイプPMR-Vを開発、販売。 |
2007 |
富士小山工場製造部門ISO14001認定取得 |
2008 |
撮像素子用マイクロレンズ FTSRタイプを開発、販売 |
本部 ISO9001-2000 認定取得 |
2009 |
ISO9001-2000 を ISO9001-2008に移行 |
2010 |
撮像素子用マイクロレンズNDR-4を開発、販売 |
2011 |
撮像素子用マイクロレンズ母型材FPPR-BLを開発、販売 |
2012 |
ホルムアルデヒドフリーエッチバック ML“FTSR-L” 及び エッチバック HM“FPPR-BL” を開発 |
2013 |
OC“FOC-375-80”、EBML“FTSR-L” 及ビ “FPPR-CL” を販売 |
2014 |
撮像素子用ハイエッチレート・高耐光性マイクロレンズFTSR-Uを開発、販売 |
2015 |
撮像素子用高屈折マイクロレンズFOC-IM52/IM71を開発 |
2016 |
撮像素子用KrF露光用マイクロレンズ母型材FPPR-ELを開発 |