② 環境対応フォトレジスト開発プロジェクト
Development of fluorine-free photoresists
project
Towards future-standard printing materials
半導体材料を、もっとサステナブルに
近年、PFAS（パーフルオロアルキル化合物・ポリフルオロアルキル化合物）などの環境への影響が世界的に注目され、半導体材料にも環境に配慮した設計が求められています。
冨士薬品工業では、高い性能を維持しながらPFAS関連物質への依存を低減する新しいフォトレジスト材料の開発に取り組んでいます。設計・合成・評価の各チームが連携し、イメージセンサ向け・ディスプレイ向け・リフトオフレジストなど、さまざまな用途に対応した材料設計を進めています。
環境規制への対応だけでなく、将来的には「環境負荷が低いことが新たな性能価値になる」という新しい材料開発の方向性にもつながる、重要な取り組みです。
「PFAS関連物質に依存しない」という制約の中で新しい答えを見つける仕事は、化学の面白さと難しさが凝縮されています。材料の可能性を広げる挑戦に、一緒に取り組みませんか。
